예스티, 반도체 고압 어닐링 기술 관련 특허 출원

[서울=뉴시스] 김경택 기자 = 예스티가 반도체 사업 분야의 신성장 동력으로 고압 어닐링(열처리 공정) 장비 개발을 본격화하고 있다. 예스티는 관련 특허 출원을 통해 기술적 우위를 확보할 계획이다.

반도체 장비 전문기업 예스티는 반도체 제조의 핵심 공정에 적용되는 고압 어닐링 기술 관련 특허를 출원했다고 2일 밝혔다.

이번에 출원한 특허 기술은 고압 어닐링 장비의 핵심 기술인 압력 챔버 등에 관한 것이다. 중수소 리액터(반응기) 장치를 최초로 국산화한 것을 골자로 한다.

예스티의 고압 어닐링 장비는 800℃의 온도 내에서 30기압의 고압을 가해 수소농도 100%를 유지하면서 어닐링 공정을 진행할 수 있다. 해당 장비는 고압으로 인한 중수소의 반도체 계면 침투율을 향상시켜 열처리 극대화가 가능하다. 기존 어닐링 장비는 600~1100℃의 고온이 필요할 뿐 아니라 수소농도도 5% 미만에 불과해 반도체 계면 결함 개선 효율이 떨어진다는 단점이 있었다.

예스티 관계자는 "예스티가 보유한 반도체 열처리 기술과 수소 제어 기술을 바탕으로 시장성과 수익성이 높은 반도체 어닐링 장비 시장에 신규 진출해 미래 성장 동력을 확보할 예정"이라며 "이미 지난해 5월부터 고압 어닐링 장비 개발에 착수해 이번에 관련 특허를 출원했다"고 말했다.
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